低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD

簡(jiǎn)要描述：v滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求v直徑200毫米的石英室v內(nèi)部石英管的設(shè)計(jì)便于拆卸和清洗v基片尺寸可達(dá)直徑150毫米v三區(qū)電阻爐

Name: 低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
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2024-10-22

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詳細(xì)介紹

v 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求

v 直徑200毫米的石英室

v 內(nèi)部石英管的設(shè)計(jì)便于拆卸和清洗

v 基片尺寸可達(dá)直徑150毫米

v 三區(qū)電阻爐，150毫米的均勻溫度區(qū)

v 溫度可達(dá)1000°C

v 使用節(jié)流型VAT蝶形閥下游壓力控制在50 mTorr到500 mTorr之間

v 88立方英尺/分的Ebara ESA25-D干式真空泵 - 兩級(jí)干式真空

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